古典环抛工艺升级，高精度光学元件精度突破 0.1 弧秒大关

 近日，光学元件加工领域传来技术突破消息 —— 通过对传统古典环抛工艺的智能化升级，国内部分企业实现了平面光学元件精度控制在 0.1 弧秒（约 0.00003 度）的超高水准，这一精度已满足航空航天遥感设备、激光核聚变装置等高端领域的严苛需求。
据行业专家介绍，古典环抛工艺凭借 “沥青磨具 + 柔性抛光” 的特性，在大尺寸、高精度光学元件加工中具有不可替代的优势。此次升级通过引入实时干涉检测系统与自适应压力控制算法，解决了传统工艺中 “人工经验依赖度高、精度稳定性不足” 的痛点。以某企业生产的 450mm 直径微晶反射镜为例，其平面度误差仅为 λ/20（λ=633nm），表面光洁度达 20/10 标准，较传统工艺效率提升 30%。
业内人士指出，该技术突破不仅推动国内光学元件摆脱对进口高端产品的依赖，更标志着我国在光学制造领域已进入 “亚纳米级” 精度竞争的第一梯队。